Intel - první funkční čip SRAM 45nm

30. 1. 2006 17:46    Rubrika: Tiskové zprávy

Nová technologie zvýší výkon a sníží energetické nároky budoucích platforem Intel

USA, 25. ledna 2006 – Intel oznamuje, že jako zcela první výrobce dosáhl významného mezníku ve vývoji 45nanometrových polovodičových obvodů. Společnost Intel vyrobila úplně první plně funkční paměťový čip SRAM (Static Random Access Memory) se 45nm strukturou. Nová generace výrobního procesu bude sloužit k velkoobjemové výrobě polovodičů.

Dosažení tohoto milníku znamená, že společnost Intel postupuje podle plánu na zavedení výroby 45nanometrovou technologií na 300mm křemíkových plátcích v průběhu roku 2007. Intel tak tímto potvrzuje platnost Mooreova zákona, který počítá se zavedením nového výrobního postupu každé dva roky.

V současné době je Intel na čele polovodičového průmyslu s velkokapacitní 65nm výrobní technologií ve dvou závodech, v Arizoně a Oregonu, přičemž další dva provozy se připravují na spuštění výroby v průběhu roku v Irsku a Oregonu.

„Skutečnost, že společnost Intel jako první zahájila velkoobjemovou výrobu 65nm výrobním postupem, a že jako první sestrojila plně funkční 45nm čip, potvrzuje její čelní pozici v oblasti konstrukce a výroby polovodičů,“ uvedl Bill Holt, vicepresident a generální ředitel Technology and Manufacturing Group společnosti Intel. „Intel má za sebou dlouhou historii technologických pokroků, které se mu podařilo přeměnit na zajímavé, hmatatelné výhody pro běžné uživatele. Naše 45nm technologie vytvoří základ budoucích počítačů s ještě vyšším výkonem na jeden watt a většími možnostmi pro uživatele.“

Nová 45nm výrobní technologie společnosti Intel umožní výrobu čipů s více než pětkrát nižším ztrátovým výkonem než současné. To zajistí delší provoz přenosných zařízení na baterie a rozšíří možnosti výroby menších a výkonnějších platforem.

Nový 45nm SRAM paměťový čip obsahuje více než 1 miliardu transistorů. Ačkoliv se nejedná o produkt, který by společnost Intel prodávala, je tento čip vhodný k ověření výkonu nové technologie, výnosu výroby a spolehlivosti produktů, ještě před zahájením 45nm výroby ostatních logických obvodů. Jedná se o první klíčový krok na cestě k velkoobjemové výrobě nejsložitějších zařízení na světě.

Vývoj 45nm výrobního postupu byl zahájen v závodě D1D v Oregonu, přičemž do této chvíle společnost Intel ohlásila výstavbu již dvou velkokapacitních továren na výrobu čipů 45nm technologií: Fab 32 v Arizoně a Fab 28 v Izraeli.